ASML uhonorowała firmę TRUMPF nagrodą Supplier Award w kategorii Technologia za rozwój nowego lasera wysokiej energii EUV. Urządzenie przeszło pomyślne testy, a seryjna produkcja ma ruszyć w 2026 roku, co ma umożliwić budowę jeszcze potężniejszych i bardziej energooszczędnych systemów litograficznych.
Laser, który ma napędzać kolejną generację EUV
Holenderska ASML przyznała firmie TRUMPF nagrodę Supplier Award w obszarze technologii za przełomowy laser EUV. Wyróżnienie wręczono 23 października 2025 podczas Dnia Dostawców ASML. To efekt udanego uruchomienia nowego źródła wysokiej energii, które ma trafić do systemów litografii EUV kolejnej generacji i zapewnić produkcję jeszcze wydajniejszych mikroprocesorów. Pierwsze egzemplarze trafią do ASML w 2026 roku.
Nowy laser składa się z ponad 450 000 elementów i waży ponad 20 ton. Według informacji przekazanych w komunikacie projekt przeszedł gruntowną przebudowę, aby podnieść niezawodność i dostępność systemów w fabrykach półprzewodników, a jednocześnie obniżyć zużycie energii i ślad CO₂. To ważna odpowiedź na presję energetyczną, z którą zmagają się producenci układów.
Sheila Leenders, starsza wiceprezes ds. zaopatrzenia strategicznego i zakupów w ASML, podkreśliła, iż firma oczekuje na dostawy nowych laserów, ponieważ mają one zwiększyć dostępność i moc produktów EUV przy mniejszym poborze energii. To jasny sygnał, iż dostawcy źródeł światła są jednym z kluczowych dźwigni wzrostu mocy narzędzi litograficznych, co bezpośrednio przekłada się na szybkość i efektywność wytwarzania układów scalonych w najnowszych węzłach technologicznych.
„Nagroda przyznana przez ASML stanowi szczególne uznanie dla zaangażowania i innowacyjności naszego zespołu. Jednocześnie podkreśla znaczenie ścisłej współpracy z ASML. Jako lider technologiczny w branży półprzewodników firma nieustannie wyznacza nowe standardy w zakresie zrównoważonego rozwoju i innowacyjności. Wspólnie napędzamy rozwój przyszłościowych rozwiązań w produkcji chipów” – powiedział Volker Jacobsen, dyrektor generalny EUV w TRUMPF.
Partnerstwo i polski akcent
ASML i TRUMPF łączy bliska, wyłączna kooperacja w obszarze laserów do EUV, dzięki której producenci chipów na całym świecie mogą tworzyć bardziej niezawodne i oszczędne systemy wytwarzania. W komunikacie obie firmy mówią o „ustalaniu nowych standardów efektywności i zrównoważonego rozwoju”, co znajduje odzwierciedlenie w projektowaniu źródła światła o wyższej energii przy niższym zapotrzebowaniu na moc. Cytowany w materiale Volker Jacobsen, dyrektor generalny ds. EUV w TRUMPF, nazwał nagrodę dowodem uznania dla zespołu oraz potwierdzeniem znaczenia ścisłej kooperacji z ASML.
W tle tego sukcesu jest także polski wątek. TRUMPF Huettinger, spółka odpowiedzialna m.in. za zasilacze do procesów powlekania, trawienia plazmowego oraz wzbudzania laserów, posiada swoje największe centra RnD i produkcji w Polsce i w Niemczech. W naszym kraju firma zatrudnia około 1 500 osób, a jej systemy zasilające są wykorzystywane w wytwarzaniu struktur półprzewodnikowych, ogniw fotowoltaicznych oraz w powłokach dla branży wyświetlaczy i komponentów przemysłowych. To potwierdza rosnącą wagę polskiego zaplecza inżynieryjnego w globalnym łańcuchu dostaw litografii EUV.
