Firma Corning zaprojektowała szkło EXTREME ULE tak, aby wytrzymywało litografię w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV) o najwyższym natężeniu, w tym EUV o wysokiej aperturze numerycznej (High NA), która gwałtownie staje się standardem branżowym. Litografia EUV umożliwia producentom wykorzystanie najbardziej zaawansowanych fotomasek do modelowania i drukowania najmniejszych, najbardziej złożonych projektów chipów. Proces ten wymaga wyjątkowej stabilności termicznej i jednolitego materiału szklanego, aby zapewnić stałą wydajność produkcyjną.
„Wraz ze wzrostem wymagań w zakresie zintegrowanego wytwarzania chipów wraz z rozwojem sztucznej inteligencji innowacje w zakresie szkła są ważniejsze niż kiedykolwiek” – powiedział Claude Echahamian, wiceprezes i dyrektor generalny Corning Advanced Optics. „EXTREME ULE Glass zwiększy kluczową rolę Corning w ciągłym przestrzeganiu prawa Moore’a, pomagając w umożliwieniu produkcji pojazdów EUV o większej mocy i wyższej wydajności”.
Właściwości rozszerzalności cieplnej szkła EXTREME ULE pomagają zapewnić niezwykłą spójność i wydajność wszystkich fotomasek. Ponadto wyjątkowa płaskość i jednorodność szkła znacznie zmniejsza falowanie fotomaski, pomagając producentom ograniczyć niepożądaną zmienność i umożliwiając stosowanie zaawansowanych powłok.
EXTREME ULE Glass stanowi ewolucję w ofercie Corning w zakresie szkła ULE (Ultra-Low Expansion), materiału szklanego z krzemianu tytanu o charakterystyce rozszerzalności bliskiej zera, od dawna stosowanego w fotomaskach EUV i zwierciadłach litograficznych. Stosując innowacyjny proces formowania szkła, Corning spodziewa się zmniejszyć zarówno zużycie energii, jak i ilość odpadów wytwarzanych podczas produkcji, przyczyniając się tym samym do zaangażowania Corning w zrównoważony rozwój.
Corning zaprezentuje szkło EXTREME ULE i inne innowacyjne materiały półprzewodnikowe na konferencji SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography w Monterey w Kalifornii w dniach 30 września–3 października.
